专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]硅片加工装置及方法-CN201310432624.6在审
  • 王坚;贾照伟;王晖 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
  • 2013-09-22 - 2015-03-25 - B24B37/04
  • 本发明揭示了一种硅片加工装置,包括机台,该机台内配置有两套或两套以上电化学抛光装置,每套电化学抛光装置包括:抛光槽,抛光槽储存抛光;及抛光腔室,抛光腔室内设置有喷嘴,喷嘴与抛光槽之间经由抛光供应管道连接;各套电化学抛光装置的抛光槽内储存相同或不同的抛光。本发明还揭示了一种硅片加工方法,包括使硅片依次在机台的各电化学抛光装置内进行电化学抛光处理,其中各电化学抛光装置内配置相同或不同的抛光。本发明根据加工需求,在机台内配置数套电化学抛光装置,提高了机台加工效率。
  • 硅片加工装置方法
  • [发明专利]一种铝材化学抛光及其抛光方法-CN202210258708.1有效
  • 陶国宏;朱秋红;张国浩;何玲 - 四川大学
  • 2022-03-16 - 2023-03-17 - C23F3/03
  • 本发明公开一种铝材化学抛光及其抛光方法,其中铝材化学抛光由离子液体、添加剂和水混合配制而成,其使用方法为:先配制铝材化学抛光,再对待抛光铝材进行化学抛光处理,最后对使用后的铝材化学抛光进行回收处理;本发明通过对抛光进行处理回收,并再次用于铝材抛光工序,实现反复循环使用,使用过程中不产生黄烟、刺激性气体等有毒物质,对人体和环境危害较小,同时,由于其可循环使用,实现了低排放、低污染,且抛光使用较低浓度的离子液体组成,大部分由水组成,使用过程中明显减少了因铝材附着带出抛光而导致流失的问题,抛光后续水洗槽中的溶液可以回收到抛光槽中,并用于铝材的化学抛光,既节约成本又避免对环境造成污染。
  • 一种化学抛光及其抛光方法
  • [发明专利]一种失效电化学抛光的活化方法-CN201710833692.1在审
  • 夏金成;陆玲;胡宗林;庄维伟;陈慧娟 - 苏州新材料研究所有限公司
  • 2017-09-15 - 2018-01-23 - C25F7/02
  • 本发明提供了一种失效电化学抛光的活化方法,包括对所述失效电化学抛光进行电解;所述电解的温度为30~90℃;所述电解的电流为30~120A。本发明提供的方法,通过所限定温度和电流强度条件的电解过程,实现失效电化学抛光中水分的有效去除,解决由于抛光自身的吸水性所导致的抛光失效问题。本发明在电解除水的基础上,通过酸沉和成分平衡处理,能够有效去除失效电化学抛光中的金属离子,并且抛光中成分得以均衡,满足抛光再使用的要求,解决由于抛光过程逐渐增多的金属离子导致的抛光的失效问题。
  • 一种失效电化学抛光活化方法
  • [发明专利]一种两酸铝制品化学抛光及其制备方法-CN201110212718.3无效
  • 王周成;赵梓岑;严维力 - 厦门大学
  • 2011-07-27 - 2011-12-07 - C23F3/03
  • 一种两酸铝制品化学抛光及其制备方法,涉及一种化学抛光。其原料组成为硫酸、磷酸、柠檬酸、氨基磺酸、非离子型表面活性剂、乙酸铜、氧化镁、过硼酸钠和水。具体步骤为按所述两酸铝制品化学抛光的原料组成,将硫酸、磷酸、柠檬酸、氨基磺酸、非离子型表面活性剂、乙酸铜、氧化镁、过硼酸钠和水混合,定容至1L,即得两酸铝制品化学抛光。使用方法为将两酸铝制品化学抛光加热至105~125℃;将干燥洁净的待抛光的铝制品浸入两酸铝制品化学抛光中,处理50~120s后取出;将取出的铝制品浸入稀硝酸中出光25~120s,清洗。抛光中不含硝酸,抛光过程中无黄烟释放,可避免氮氧化物造成大气污染。
  • 一种铝制品化学抛光及其制备方法

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